硅基OLED分辨率突破10000PPI

添加时间：2025/02/17

      微型显示器一项关键技术已经突破，可以从根本上解决像素干扰这一超高分辨率微型显示器长期存在的挑战。

      微型显示器是非常小的高分辨率显示器，通常显示面板的尺寸小于一英寸。

      像素干扰是高分辨率显示器中相邻像素之间电信号或光信号重叠的现象，导致色彩纯度和色域降低。

      韩国国家研究基金会宣布，由汉阳大学金道焕教授、延世大学赵正浩教授和西江大学姜文成教授组成的联合研究团队开发出超高分辨率有机发光二极管（OLED）微型显示器的核心技术，该技术即使在高密度像素环境下也能实现清晰的画质，而不会受到信号干扰。

      据韩国国家研究基金会称，随着对使用扩展现实技术的逼真内容的需求不断增长，开发能够提供逼真的视觉信息并提供即时沉浸感的OLED微型显示器的需求也日益增长。

      但随着分辨率的提高，像素之间的距离越来越接近几个微米的级别，这会造成电信号干扰，导致色域和色彩纯度的降低。

      为了解决这个问题，对像素之间共用的空穴传输层进行精细图案化以阻止漏电流流向相邻像素非常重要。然而，目前广泛用作空穴传输层的小分子有机半导体一直是实现高密度像素的未解决的挑战。

      据此，研究团队开发出可实现超过1万ppi超精细图案的有机半导体空穴传输材料，成功实现即使在高密度像素环境下也不会产生信号干扰的高分辨率OLED器件。

      该研究团队开发出一种技术，通过利用基于各向异性蚀刻的硅（Si）半导体光刻工艺将硅分子引入交联空穴传输层，即使在大面积晶圆上也可以实现微米级的超高分辨率像素。

      此外，通过引入硅分子来控制有机半导体基空穴传输层的能级和空穴传输速度，提高了OLED的发光效率。

      金道焕教授表示：“这项研究成果意义重大，因为它大大改善了现有微显示器材料和图案工艺无法解决的像素干扰现象。”他补充道，“它有望扩大和加速高分辨率微显示器在构建超现实扩展现实方面的应用潜力。”

      该项研究成果于1月27日在国际学术期刊《自然电子学》上在线发表。